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製品情報

ピコミル ®

(微小ビーズ対応型ビーズミル)

微小ビーズによるハード分散でナノ分散の領域へ

断面図

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機種
  • 分散機·ビーズミル
  • 攪拌機
  • 混練機
目的
  • 試作(研究)
  • 生産
  • ナノ分散
  • 高粘度処理
  • 乾式処理
  • 混練
業種
  • 塗料・インキ
  • 電池・キャパシター
  • 電子部品
  • ディスプレイ
  • 化粧品·医薬品
  • 機能性材料

対応粘度・粒度

到達粒子径[μm]

粒子が細かい

粘度が低い

適正粘度範囲[mPa・s]

10 5 3 2 1 0.5 0.3 0.2 0.1
1 100 200 300 500 1000 2000 3000 5000

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※参考値となります

特長

  • 分散ローターの形状とφ0.1㎜ビーズを組み合わせることでナノレベルの粒子が製造可能。
  • 冷却面積が広く、製品の温度制御が可能。
  • 接液部材質にセラミック部材と高分子樹脂を使用することで金属コンタミレスが可能。
    (セラミック仕様はオプション。標準型は高分子樹脂)
  • 分散エリアが横型構造のため分解・洗浄・組立が容易に行え、メンテナンス性が良好。
  • ラボ機から生産機まで幅広くラインナップしております。
  • テスト可能機種:PCM-LR、PCMH-C2M、PCMH-C20M、PCMH-C20ML

ここがポイント

  • 分散ローターと回転スクリーンから構成される 当社独自の遠心スクリーンセパレータ 方式により微小メディアが使用可能。
  • アニュラータイプ構造のため、分散エリア全体が高エネルギーとなりナノ領域での分散力が高い。
  • 遠心スクリーンセパレータ方式により大流量運転が可能。

参考処理事例

ピコミル分散実施例 機種:ピコミル2L機(型式:PCMH-C2M)試料:10wt% 酸化チタン水溶液 初期粒子径:0.673μm 運転条件:ミル周速:8m/s 送液量:0.5L/minビーズ材質:ジルコニア 80wt% 充填評価:レーザー回折/散乱式粒子分布測定装置 プレミキシングと各ビーズ径での6パス処理を比較するとビーズ径が小さい程、粒子径分布の波形がブロードからシャープとなり、ピーク(頻度)粒子径についても微細化されていることがわかる。

ピコミル分散実施例 機種:ピコミル2L機(型式:PCMH-C2M)試料:10wt% 酸化チタン水溶液 初期粒子径:0.673μm 運転条件:ミル周速:8m/s 送液量:0.5L/minビーズ材質:ジルコニア 80wt% 充填評価:レーザー回折/散乱式粒子分布測定装置

プレミキシングと各ビーズ径での6パス処理を比較するとビーズ径が小さい程、粒子径分布の波形がブロードからシャープとなり、ピーク(頻度)粒子径についても微細化されていることがわかる。

仕様

型式 分散部容量
(L)
主軸モータ
(kW)
参考液送量
(L/Hr)
PCM-LR 0.048 0.75 ~30
PCMH-C2M 0.72 3.7 ~70
PCMH-C5M 3.5 11 ~240
PCMH-C20M 8.5 22 ~550
PCMH-C20ML 8.6 22 ~550
PCMH-C50M 24 37 ~800
  • ※PCM-LRの軸封はリップシール(ベセル内圧0.1MPa以下)です
  • ※液送量は参考値です
  • ※本仕様は改良のため、予告なく変更することがあります
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